Canon lanza revolucionario escáner de nanoimpresión para chips de 5 nm: ¿ASML y EUV en peligro?

Sí, era un secreto a voces y finalmente la empresa lo ha confirmado oficialmente. Mencionamos brevemente esta semana en otro artículo, así que ahora vamos a analizarlo en detalle, porque lo que Canon ofrece podría representar una competencia ante el monopolio de Europa y ASML en escáneres litográficos. Se conoce como Litografía por Nanoimpresión o NIL, y Canon busca ingresar a un segmento del mercado de grabado de chips donde ni ASML compite: en el bajo costo. ¿Es esto realmente posible?

Aunque no es un concepto completamente nuevo, Canon lo ha llevado a un nuevo nivel para poder competir con uno de sus principales socios, como es ASML. La empresa japonesa ha invertido 50 años de experiencia y miles de millones en casi una década de desarrollo desde su concepción para lograr lo que ahora presenta oficialmente.

Entonces, ¿qué es exactamente la litografía por nanoimpresión (NIL) en escáneres para chips de Canon? Después de varios estudios de fotónica, los japoneses han considerado que el camino de la luz no es el único a seguir, al menos no para grabar chips con mayor precisión y transistores más pequeños. Según Chris Howells, director de la división de equipos para semiconductores de Canon en Europa, “la litografía de nanoimpresión es comúnmente conocida como ‘técnica de litografía avanzada’ y nuestra versión se basa en nuestra experiencia en tecnología de inyección de tinta”.

A partir de esto, podemos deducir que el NIL de Canon como litografía de nanoimpresión en un escáner tiene poco en común con el sistema fotónico de ASML. Pero, ¿cómo funciona?

El sistema de inyección para chips, similar al utilizado en las impresoras, es la clave de la explicación que ofrece Canon para su escáner NIL. En lugar de imprimir un patrón en una oblea totalmente revestida de fotorresistente, el NIL libera gotas de líquido solo donde es necesario, utilizando la misma tecnología de las impresoras de inyección de tinta Canon.

Luego, un sello especial llamado “máscara” aplica el patrón deseado por presión en el líquido. Puede parecer simple, pero estamos hablando de una escala minúscula que requiere precisión absoluta. Los desarrolladores y diseñadores de los dispositivos han enfrentado el desafío de evitar cualquier elemento externo.

Son necesarias más máscaras durante la vida útil de un sistema NIL, y estas también se crean utilizando otro dispositivo fabricado por Canon. “Básicamente, los dos dispositivos juntos crean un proceso de suministro interno para la tecnología de nanoimpresión”, explica Chris.

La última parte del proceso es cuando se retira la máscara, dejando pequeñas estructuras que luego se curan con luz UV. Estos patrones geométricos intrincados e incluso hermosos son invisibles a simple vista, ya que su tamaño es de solo unos nanómetros.

Los escáneres NIL son mucho más baratos, eficientes y duraderos que el EUV de ASML. Según Canon, el uso de material y productos químicos se reduce al mínimo y, en términos de precio, es asombroso: mientras que un escáner de ASML para EUV puede costar entre 150 y 400 millones de euros, Canon afirma que sus escáneres tendrán un dígito menos en precio.

Aun así, Fujio Mitarai, el CEO de la empresa, no espera que la tecnología de nanoimpresión supere a EUV, pero confía en que creará nuevas oportunidades y demanda. Finalmente, aseguró a sus socios, como Estados Unidos, que no violarán las sanciones y prohibiciones en China, donde no se permite el envío de escáneres por debajo de los 7 nm. Con la litografía de nanoimpresión, Canon puede grabar chips de hasta 5 nm dentro de las restricciones estadounidenses. La empresa no ha especificado las WpH que puede lograr su FPA-1200, pero se rumorea que su rendimiento es bastante inferior a los escáneres de ASML, al menos por ahora.